EUV光刻机生产芯片的能耗将很快达到创纪录的水平

极紫外光刻技术是近年来最复杂的技术创新之一。极紫外光刻设备对于生产更小、更强大的微芯片至关重要，但其耗电量巨大。更糟糕的是，它们对电力的渴求预计在未来几年只会大幅增长。

根据TechInsights最近的一份报告，到2030年，配备EUV工具的晶圆厂每年的耗电量将超过54000千兆瓦时(GWh)。从这个角度来看，这比新加坡或希腊等小国的总用电量还要多。

荷兰公司ASML是目前世界上唯一一家生产EUV光刻机的制造商，这种工具需要大量的投资和努力才能集成到芯片制造操作中。在台湾、韩国、日本、美国、德国和爱尔兰等国家和地区，都有使用EUV系统进行大批量生产的工厂。

当前一代EUV工具的功耗高达1170千瓦，而下一代High-NAEUV光刻机的功耗预计将达到1400千瓦左右。

TechInsights目前列出了31家采用EUV设备进行芯片制造的工厂，预计到2030年底还将有28家工厂投入使用。

虽然EUV光刻机耗电量很大，但只占整个芯片制造厂总能耗的11%。到2030年，59家配备EUV功能的芯片制造厂预计每年将消耗54000千兆瓦的电力，相当于拉斯维加斯大道所需电力的19倍。

随着全球晶圆代工企业迅速采用EUV机器，TechInsights警告说，这一趋势将对环境产生重大影响。

该报告还为芯片制造巨头们提供了潜在的有用建议，因为他们很快就将面临持续创新与重大能源影响之间的十字路口。报告指出，该行业应加大对节能技术和可再生能源的投资力度。尽管重开关闭已久的核电站似乎不是最环保的选择，但有关这一问题的讨论仍在继续。