佳能交付首台新型纳米压印光刻机 能耗据称只要十分之一
全球光刻机产业终于迎来了一个有些“不一样”的新产品——日本佳能公司本周宣布,成功交付首台新型纳米压印光刻机。这里首先需要解释一下,佳能的纳米压印光刻(NIL)系统,与阿斯麦的光刻技术有什么区别。
(来源:佳能公司官网)
传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆上来转移电路图案,
佳能在去年十月发布了全球首台商业化纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C,
佳能表示,相较于传统光刻机需要复杂的光学镜片构造,
这条芯片制造路线的开发从2014年启动。去年底开始,佳能与铠侠(Kioxia)、大日本印刷合作开始销售这款设备。
佳能光学产品副首席执行官KazunoriIwamoto对媒体表示,
对于佳能来说,进一步推广纳米压印技术也存在一些挑战。首先由于“压印”的物理机制,这种光刻机需要更先进的技术防止细小的尘埃颗粒造成芯片缺陷。同时由于芯片制造涉及广泛的产业链,拓展更多公司、特别是材料企业加入“纳米压印产业链”对于佳能来说也非常重要。
责任编辑:站长云网
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